10nm工艺节点即将大规模普及,同时这也意味着我们很快进入7nm阶段,不过,7nm的技术挑战已不可同日而语,其中的关键就是EUV(极紫外)光刻机。
其中,荷兰ASML(阿斯麦)在当今高端沉浸式光刻机中占据80%的份额,是绝对的龙头。
昨天晚些时候,阿斯麦也公布了财报数据,Q1净营收为19.4亿欧元,毛利率47.6%,而它们所做的一切,不过是卖出数十台光刻机而已。
其中主要包含三部分,分别是深紫外光(DUV)微影、全方位微影(Holistic Lithography)和极紫外光(EUV)微影,前者用于10nm量产和7nm的研发,迄今累计装机60多台。
而最高端的EUV光刻机,仅仅在Q1晚些时候出货了第一台NXE:3400B,而收到的订单已经累计21台,总价值23亿欧元,单价超1亿欧,媲美一架F35战斗机。
这第一台的客户如无意外应该就是Intel,而后者目前用的最多的还是前一代EUV系统NXE 3350B,即使这样,全球也才部署了6套而已,供不应求。
责任编辑:海凡
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